Huawei y SMIC logran fabricar un chip de 5 nm sin acceso a tecnología EUV

Huawei y su socio tecnológico SMIC han alcanzado un hito importante en la industria de los semiconductores al desarrollar el procesador Kirin 9030, utilizado en la nueva serie de teléfonos Huawei Mate 80. A pesar de las restricciones impuestas por Estados Unidos, que impiden a China acceder a las avanzadas máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) de la empresa europea ASML, ambas compañías han conseguido producir un chip funcional de 5 nanómetros utilizando tecnología más antigua basada en litografía ultravioleta profunda (DUV) y técnicas de multipatrón. El análisis técnico realizado por TechInsights confirma que el Kirin 9030 está fabricado con el proceso N+3 de SMIC, que supone un avance significativo respecto al nodo N+2 de 7 nanómetros empleado en versiones previas como los Kirin 9000S, 9010 y 9020. Aunque este nuevo proceso no alcanza la densidad de integración de los chips de 5 nm de fabricantes como TSMC o Samsung, demuestra que China puede seguir reduciendo el tamaño de sus transistores con medios propios. Este salto tecnológico se traduce también en una mejora de rendimiento de aproximadamente el 42% en los dispositivos Mate 80 Pro Max, además de una mayor eficiencia energética en las versiones estándar y Pro del chip. Sin embargo, este progreso tiene un coste: la producción con tecnología DUV implica un mayor gasto y una tasa de éxito inferior a la de los competidores internacionales. En cualquier caso, el logro sitúa a Huawei y SMIC como referentes de la resistencia tecnológica china y refuerza la independencia del país frente a las restricciones internacionales en materia de semiconductores.