China avanza en tecnología de fabricación de chips con su prototipo EUV

La noticia revela los esfuerzos de China para desarrollar su propia máquina EUV (Extreme Ultraviolet Lithography), un componente crítico para la producción de microprocesadores avanzados. A diferencia de las máquinas de ASML, que ocupan el tamaño de un autobús escolar, el prototipo chino requiere un espacio completo de fábrica debido a su complejidad técnica y los desafíos en la fabricación de espejos con precisión atómica. El artículo destaca cómo China utiliza técnicas como la ‘cuadruple patterning’ para superar limitaciones actuales, aunque aún enfrenta retos en eficiencia y escalabilidad. La iniciativa forma parte de un proyecto estratégico de soberanía tecnológica, ya que el objetivo no es competir comercialmente con ASML, sino garantizar independencia en la producción de chips para sistemas críticos como inteligencia artificial. Este avance tiene implicaciones geopolíticas significativas al influir en el control de la tecnología semiconductora global.