China desarrolla una fuente de luz ultravioleta extrema para impulsar su industria de semiconductores

China está avanzando en el desarrollo de su propia tecnología de fotolitografía extrema para la fabricación de chips avanzados. Ante las restricciones impuestas por EE.UU. y Países Bajos a la exportación de equipos de litografía de ASML, el país asiático ha optado por desarrollar un sistema propio basado en un sincrotrón de alta energía (HEPS). Este acelerador de partículas, ubicado en Pekín, generará luz ultravioleta extrema (UVE) para la producción de semiconductores avanzados, lo que podría reducir la dependencia china de tecnología extranjera. Según diversas fuentes, China podría lograr una capacidad de fabricación comparable a la de empresas como TSMC o Intel en los próximos años. Aunque la fecha exacta de inicio de producción no ha sido revelada, la infraestructura ya se encuentra en una fase avanzada. Este avance representa un paso estratégico en la guerra tecnológica entre China y Occidente, reforzando la autosuficiencia del gigante asiático en un sector clave para la economía y el desarrollo tecnológico global.