China desarrolla tecnología propia para competir con ASML en la fabricación de semiconductores

China ha dado un paso estratégico en su intento por alcanzar la autosuficiencia tecnológica en la industria de los semiconductores. Para reducir su dependencia de compañías extranjeras como ASML, líder en máquinas de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE), investigadores y empresas chinas como Huawei, SMIC y SMEE, junto con instituciones como la Universidad Tsinghua, están desarrollando equipos avanzados propios. Utilizan técnicas de ingeniería inversa sobre equipos de fotolitografía profunda existentes e integran innovaciones propias. Durante marzo, se ha registrado un volumen inusualmente alto de patentes relacionadas con esta tecnología, incluyendo desarrollos críticos como la tecnología SSMB-UVE y métodos de interferometría para generar patrones nanométricos sin depender de lentes de ZEISS. Estas patentes buscan tanto proteger la propiedad intelectual china como dificultar la expansión tecnológica de ASML y sus proveedores. En el futuro, si la industria occidental necesita adoptar métodos similares, tendrá que negociar o desarrollar alternativas, consolidando así la posición de China en el sector. Este avance es crucial no solo para la industria de semiconductores sino también para la capacidad militar y el desarrollo de inteligencia artificial en el país.