China avanza en la fabricación de chips con su primer equipo de litografía de nanoimpresión

China ha dado un importante paso en la fabricación de semiconductores al completar su primer equipo de litografía de nanoimpresión (NIL) de vanguardia. Esta máquina, diseñada por Pulin Technology, es una alternativa más económica a las máquinas UVE de ASML, las cuales son actualmente las más avanzadas y caras del mercado. Con el apoyo del gobierno chino, que ha invertido 41.000 millones de dólares en el desarrollo de estas tecnologías, el país asiático busca reducir su dependencia de los gigantes del sector como Estados Unidos y Países Bajos. Los equipos NIL permiten fabricar chips de 2 nm, lo que coloca a China en una posición competitiva frente a otras potencias tecnológicas como TSMC, Samsung e Intel. Aunque la litografía NIL es más lenta y menos compleja que la UVE, su costo mucho más bajo, estimado en unos 15 millones de dólares por unidad, podría marcar una diferencia importante en la producción de chips a gran escala. Este avance es un reflejo del impulso hacia la autosuficiencia tecnológica que persigue China en su guerra tecnológica con Occidente.